?一、晶間腐蝕簡介

晶間腐蝕是金屬局部腐蝕的一種，通常出現(xiàn)于不銹鋼、鋁合金、黃銅和鎳基合金等材料中。晶間腐蝕是沿著金屬晶粒間的分界面向內(nèi)部擴展的腐蝕。晶間腐蝕的原因是晶粒表面和內(nèi)部間化學成分的差異以及晶界雜質(zhì)或內(nèi)應力的存在。

晶間腐蝕會破壞晶粒間的結合，大幅降低金屬的機械強度。晶間腐蝕發(fā)生后，金屬和合金的表面雖然仍保持一定的金屬光澤，看不出被破壞的跡象，但晶粒間結合力顯著減弱，力學性能惡化。由此可見，晶間腐蝕是一種很危險的腐蝕。本儀器是專用于評價材料的晶間腐蝕性能的儀器。

二、產(chǎn)品簡介

HYCT-4s晶間腐蝕儀是專門應用于不銹鋼的晶間腐蝕的專用設備，用于檢驗各種類型的不銹鋼、鋁合金等材料在特定的溫度和腐蝕試劑下晶間腐蝕的狀況，從而判定材料的化學成分、熱處理和加工工藝是否合理。MICT-4s晶間腐蝕儀滿足國標GB/T 4334-2020和美標ASTM A262-2015。

HYCT-4s晶間腐蝕儀由加熱部分、控制部分以及冷卻部分組成。設備配有四個加熱底座，可同時對四個燒杯進行加熱，溫度可通過控制部分任意設置。水蒸氣通過冷卻后可以自動回流到燒杯內(nèi)，從而減少因水汽蒸發(fā)引起的試劑濃度變化。工作時，可將處理后試樣按照上述方法放入燒杯，配制符合標準要求的試劑，將溫度調(diào)整到規(guī)定溫度，加熱到規(guī)定時間后取出試樣即可。

觸摸屏操作界面

三、產(chǎn)品特點

l HYCT-4s晶間腐蝕儀滿足國標GB/T 4334-2008和美標ASTM A262-2015中的試驗(A法選配)。

l PLC和PID控制，水溫始終控制在設定溫度，實現(xiàn)設定溫度下長時間的腐蝕過程，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠。

l 觸摸屏顯示操作界面，操作簡單、參數(shù)設定方便直觀。

l 可同時腐蝕4個試樣。

l 無須外部水源(選件)，循環(huán)冷卻水控制熱酸液自動回流至燒杯，減少酸液濃度變化。

l 冷卻水不足或者發(fā)生故障時，系統(tǒng)自動報警并停止加熱。

l 假如突發(fā)停電后再來電后，腐蝕試驗繼續(xù)進行，腐蝕時間在停電前的時間計數(shù)上繼續(xù)累記計時。

l 晶間腐蝕儀的總功率2000W。

l 每個單獨工位的功率為500W，獨立控制，方便操作。

l 一般設置在280℃-320℃左右，溶液就沸騰了，然后可以開始降溫，在240℃-260℃之前溶液一直是微沸的即可，最高溫度可達到400℃（不建議長時間用最高溫度工作，影響加熱盤壽命）。

四、標準配置：

部分案例